SEMICON Europa 2021: Ushio präsentiert breites Spektrum von Halbleiterlösungen

Ushio stellt Lösungen von EUV bis IR für thermische Verarbeitung, Lithografie und Oberflächenbehandlung vor

Auf den gemeinsam stattfindenden Fachmessen SEMICON Europa und Productronica, Messe München vom 16. bis 19. November 2021, wird Ushio Europe sein herausragendes Sortiment von Halbleiter-Beleuchtungslösungen in Halle B1 am Stand B1818 präsentieren. Als eine der wichtigsten internationalen Konferenzen und Ausstellungen für die Halbleiterbranche bietet die SEMICON Europa ausgezeichnete Vernetzungsmöglichkeiten für vielfältige Unternehmen. Ushio freut sich besonders darauf, seine erstklassigen industriellen Lichtquellen für die Lithografie, thermische Verarbeitung und Oberflächenbehandlung vorzustellen.

Für das internationale Publikum in München hält Ushio sein gesamtes Sortiment an Halbleiterlösungen bereit. Als führender Hersteller von Lichtquellen für industrielle Anwendungen, von Extrem-Ultraviolett (EUV) bis Infrarot (IR), hat das Unternehmen zahlreiche Produktdemonstrationen und Fachberatungen durch sein Entwicklerteam vorgesehen.

Produktpremieren von Ushio auf der SEMICON Europa 2021

Auf der diesjährigen Messe, Ushios erstem persönlichen Auftritt in der Halbleiterbranche seit Beginn der Pandemie, können sich die Besucher auf mehrere Europapremieren des Unternehmens freuen. Zu Ushios jüngsten Innovationen zählen eine neue Reihe von LED-Heizmodulen, Direct-Imaging-Systeme, das Belichtungssystem UX4 mit Vollfeldprojektion zur Maskenausrichtung und die LPP-Technologie – die vielseitigste und kompakteste EUV-Lichtquelle mit laserproduziertem Plasma auf dem Markt. Präsentiert werden auch einige bereits bekannte Produkte. Experten von Ushio werden Fragen zu Superhochdruck-Lampen (SH), Solid-State-Beleuchtungslösungen (LEDs und Laserdioden), Halogenbeheizung sowie UVE- und Excimer-Technologie beantworten.

Neues LED-Heizmodul

Ushios neue LED-Heizmodule befinden sich derzeit noch im Entwicklungsstadium, doch gemäß dem Leitmotiv der Zusammenarbeit werden Anregungen und Bedürfnisse möglicher Kunden jederzeit einbezogen. Insbesondere hat Ushio an die Anwendungsbereiche Ätzung, Dotierung und Ionenimplantation gedacht, wobei eines der Module, das die beinahe augenblickliche Beheizung in Sekundenbruchteilen ermöglicht, bereits fertig entwickelt ist. Bei optimierten Merkmalen ergibt sich ein kompaktes, wirtschaftliches LED-Heizmodul mit schneller und präziser Temperaturregelung nur für den ausgewählten Behandlungsbereich.

Direct-Imaging-Systeme (DI)

ADTEC Engineering, Ushios Tochtergesellschaft im Bereich Lithografie, präsentiert auf der SEMICON Europa 2021 die Belichtungssysteme DE-2 und DE-8. Komplettlösungen für die Direct-Imaging-Belichtung (DI) von Substraten für integrierte Schaltungen (IC) und zur Verarbeitung von Leiterplatten (PCB) sind dank ADTEC ein fester Bestandteil des Ushio-Portfolios. Von Bedeutung ist auch die Partnerschaft zwischen ADTEC und Deca, die auf Kompatibilität mit der Technologie des Adaptive Patterning™ von Deca ausgerichtet ist.

Komplementär zur großen Auswahl an Steppern für MEMS, Advanced Packaging und der LCD-Herstellung bei Ushio hat ADTEC Engineering unlängst mit dem Ausbau seines Produktionsstandorts begonnen, um für den wachsenden Bedarf im Lithografiesektor gerüstet zu sein. Gerne können Sie mit unseren Kollegen auf der SEMICON Europa 2021 Ihre Anwendungsmöglichkeiten für die Modelle DE-2 und DE-8 besprechen.

Hauptmerkmale: Direct-Write-Belichtungssystem DE-2 der nächsten Generation

• DE-2 W300 für 300-mm-Wafer; DE-2 P600 für Platten von 600 mm x 600 mm
• Direct Imaging ohne Maske für hochpräzises Fan-Out-WLP- und Fan-Out-PLP-Packaging
• Minimale Linienbreite/Abstand = 2/2 µm Abbildungsleistung
• Overlay-Genauigkeit ≦ 1 μm
• Optional: Konnektivität für Adaptive Patterning™ von Deca

UX-4: Belichtungssystem mit Vollfeldprojektion zur Maskenausrichtung

Mit dem Aligner der Serie UX-4 zur verbesserten Produktion von mikroelektromechanischen Systemen (MEMS), lichtstarken LEDs und Leistungshalbleitern stellt Ushio sein Fachwissen im Bereich der Lithografielösungen mit Vollfeldprojektion unter Beweis.

Als Entwicklung des versierten japanischen F&E-Teams von Ushio ist der UX-4 mit einer hochwertigen Linse für größte Schärfentiefe ausgestattet. Die UX-4-Technologie ermöglicht die Vollfeldbelichtung von Wafern mit Durchmessern von bis zu 200 mm bei deutlich gesteigerter Produktivität und reduzierten Herstellungskosten. Mit einem eigens entwickelten optischen Bestrahlungssystem gewährleisten die Superhochdruck-UV-Lampen von Ushio (500 W ~ 35 kW) ein hohes Maß an Homogenität. Ushios SH-Lampen, entwickelt in Zusammenarbeit mit Geräteherstellern als Antwort auf deren immer vielfältigere Anforderungen, sind ein hochgeschätztes Instrument für die Lithostrukturierung.

Hauptmerkmale: Aligner der Serie UX-4

• Keine Maskenschäden: Kein Kontakt zwischen Maske und Wafer über den gesamten Behandlungsablauf.
• Vollfeldprojektion: Behandlung der gesamten Oberfläche in einem Arbeitsgang (anstelle von mehreren Durchläufen mit dem „Stepper“-Verfahren).
• Dreidimensionale Belichtung: Große Schärfentiefe. Hochauflösende Behandlung an der Ober- und Unterseite im Gegensatz zu Proximity-/Kontaktausrichtern und Steppern.
• Eignung für Dicklack: Keine Klebeprobleme zwischen Maske und Wafer durch dicken, klebrigen Lack – ein seit Langem bekanntes Problem bei Proximity- und Kontaktausrichtern.
• Maskenversatz mit Proximity-Ausrichtern: Keine besondere Maske erforderlich; Verwendung individuell angepasster Masken für Kontaktausrichter möglich.

Vorgesehene Anwendungen für den Vollfeldprojektions-Aligner UX-4

• Beschleunigungssensoren
• BAW-Filter
• Quarzoszillatoren
• Dioden
• IGBT
• Induktoren
• Tintenstrahl-Druckköpfe
• LEDs
• MEMS
• MMICs
• MOS-FETs
• Passive Komponenten
• Leistungsverstärker
• Leistungshalbleiter
• HF-Geräte
• SAW-Filter
• Sensoren
• Solarzellen
• Thyristoren
• Und viele mehr …

LPP: Die Zukunft gehört dem laserproduzierten Plasma

Durch die Auseinandersetzung mit laserproduzierten Plasmen (LPP) gelang Ushio die Entwicklung der bislang vielseitigsten EUV-Lichtquelle aller Zeiten. Dieser Durchbruch ebnete den Weg für ein neues Produkt für Lithografie-Inspektion und medizinische Anwendungen, das sich nun in Entwicklung befindet. Bei äußerst beeindruckender EUV-Leuchtkraft ist die LPP-Technologie auch kompakt, vielseitig und wartungsarm.

Die EUV-Lichtquelle mit laserproduziertem Plasma (LPP) ist eine Entwicklung von Ushio Germany in Zusammenarbeit mit dem Fraunhofer ILT. Ein rotierendes Scheiben-Target, das mit flüssigem Zinn beschichtet ist, wird in Verbindung mit einem Solid-State-Nanosekundenlaser eingesetzt. Durch die kompakte Konstruktion können EUV-Photonen für verschiedenste Anwendungen bereitgestellt werden. Der Betrieb der Lichtquelle soll bei bis zu 50 kHz möglich sein, wobei aktuell Prüfungen bei 20 kHz durchgeführt werden. Ein Staubfilter und -sammler sorgen dafür, dass EUV-Licht beim Zwischenfokus zur Verfügung steht.

Hauptmerkmale: bislang vielseitigste LPP-EUV-Lichtquelle

• Rotierendes Scheiben-Target mit flüssiger Zinnbeschichtung
• Einfache Bedienung
• Kleine Emissionsgröße: 100 x 45 μm² (an Plasma)
• Stabile Ausgabe über Stunden/Tage
• Zinnspektrum (l: 13,5 nm)

Bewährte Lösungen: Gespräche über das gesamte Sortiment mit Experten von Ushio

Ushio fertigt bereits seit langer Zeit Lampen, Module und Komplettlösungen für Anwendungen in der Lithografie, der thermischen Verarbeitung und der Oberflächenbehandlung. Neben den bereits erwähnten Neuerungen werden in München auch zahlreiche etablierte Produkte von fachkundigen Vertretern des Unternehmens präsentiert:

SH-Lampen

• Als weltgrößter Anbieter von Superhochdruck-Lampen (SH) ist Ushio weithin für hochwertige, modernste Technologien bekannt. Zahlreiche führende Gerätehersteller haben die Marke Ushio für ihre Zwecke zertifiziert.

Solid-State-Beleuchtung

• Bekannt ist Ushio auch für LEDs und Laserdioden aus unternehmenseigener Fertigung, von UV bis IR. Ein umfassendes Sortiment an standardisierten und individuell anpassbaren Produkten, darunter die führende LED-Marke Ushio Epitex, bietet Lösungen, die selbst zu den ungewöhnlichsten Ideen passen.

Gerade und gebogene IR-Lampen

• Kompakt und stabil
• Gleichmäßige Erwärmung
• Vollständig individuell anpassbar
• Broschüre herunterladen: Infrarot-Lampen für diverse industrielle Anwendungen

Infrarot-Zwillingsrohrstrahler

• Hohe Strahlungsdichte
• Verschiedene Leuchtfäden
• Optionale Reflexionsbeschichtung
• Flyer herunterladen: Hohe Infrarot-Strahlungsleistung mit Zwillingsrohrstrahler

Excimer

• Hyper V-ST: Hochleistungsfähiger Kompakt-Excimer für Oberflächenaktivierung und -behandlung. Ein kompaktes, anwenderfreundliches und kosteneffizientes Modul mit optionaler N₂-Spülung.

• 222-nm-Excimer-Lampen: Die neue 222-nm-Belichtung ermöglicht eine gleichmäßige Bestrahlung ohne optisches System und dadurch höhere Geschwindigkeiten bei der Verarbeitung von Wafern (6 bis 12 Zoll). Die Excimer-Lampen von Ushio mit verzögerungsfreiem Ein- und Ausschalten und stiller elektrischer Entladung kommen ohne umweltschädliches Quecksilber aus.
• Weitere Informationen zur Excimer-Technologie finden Sie bei Ushio Europe auf der Seite Excimer: Die Erklärung der Technik.

Treffen mit Ushio auf der SEMICON Europa

Da persönliche Gespräche nun wieder möglich sind, freut sich das Ushio-Team sehr, Sie auf der SEMICON Europa zu begrüßen. Falls Sie nicht kommen können, aber dennoch genauer wissen möchten, was Halbleiter-Beleuchtungslösungen von Ushio für Ihr Unternehmen bedeuten könnten, nutzen Sie einen der folgenden Links zur Kontaktaufnahme:

EMEA: https://www.ushio.eu/de/kontakt/
Asien: https://member.ushio.co.jp/en/members/contact/product-led
USA: https://www.ushio.com/contact-us/

SEMICON Europa / Productronica
Messe München
Halle B1, Stand B1818
16.–19. November 2021