UV-Excimer-Oberflächenbestrahlung
UV-Excimer-Module
Die Excimer-Technologie findet zunehmend Anwendung für die Entfernung von organischen Verunreinigungen auf Substraten, verschiedene Oberflächenmodifikationsbehandlungen und kalte Polymervernetzung. Das kompakte Excimersystem von USHIO wurde speziell für den Laboreinsatz und die Prozessentwicklung entworfen. Die größeren Systeme wurden für Produktionsumgebungen optimiert, in denen eine schnelle Verarbeitungsgeschwindigkeit erforderlich ist.
Excimer: Die Erklärung der Technik
Anwendungen
- Optische Reinigung
- Fotochemie
Lampentypen
- USHIO bietet eine breite Palette von Produkten, einschließlich grundlegender Forschungsinstrumente, Standardquellen und integrierter Systeme, die für Ihre spezifischen Produktionsanforderungen optimiert werden.
- Konzeptbewertungsinstrumente
- Weitbereich-Bestrahlungsquellen
Vorteile
- Hohe Energie durch kurze Wellenlänge gewährleistet
- Kaltlichtquelle
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