RTP
Die schnelle thermische Verarbeitung („Rapid Thermal Processing“, RTP) besteht aus einem berührungslosen Schnellerwärmungsprozess mit IR-Strahlung, der eine Verunreinigung des Wafers vermeidet. USHIO liefert Heizleistungen von mehreren Kilowatt in Form von speziell entwickelten Einzel- und Doppelend-IR-Strahlern.
